Plasma Chemistry And Plasma Processing

Plasma Chemistry And Plasma Processing杂志简介

Plasma Chemistry And Plasma Processing是由Springer US出版商主办的物理与天体物理领域的专业学术期刊，自1981年创刊以来，一直以高质量的内容赢得业界的尊重。该期刊拥有正式的刊号（ISSN：0272-4324，E-ISSN：1572-8986），出版周期Quarterly，其出版地区设在UNITED STATES。该期刊的核心使命旨在推动物理与天体物理专业及工程化工学科界的教育研究与实践经验的交流，发表同行有创见的学术论文，提倡学术争鸣，激发学术创新，开展国际间学术交流，为物理与天体物理领域的发展注入活力。

该期刊文章自引率0.0833...，开源内容占比0.0935，出版撤稿占比，OA被引用占比，读者群体主要包括物理与天体物理的专业人员，研究生、本科生以及物理与天体物理领域爱好者，这些读者群体来自全球各地，具有广泛的学术背景和兴趣。Plasma Chemistry And Plasma Processing已被国际权威学术数据库“SCI（Science Citation Index） 、 SCIE（Science Citation Index Expanded） ”收录，方便全球范围内的学者和研究人员检索和引用，有助于推动工程化工领域的研究进展和创新发展。